+86 4008783488

20240617-151702

إحداث ثورة في إنتاج ثنائي الفينيل متعدد الكلور: تصنيع نفث الحبر مقابل الطرق التقليدية

يستكشف هذا المقال تطور تصنيع ثنائي الفينيل متعدد الكلور، ويقارن بين الطرق التقليدية شبه المضافة والطرحية والتصنيع المبتكر بنفث الحبر. وهو يتعمق في فوائد كل تقنية، مع التركيز على الكفاءة والتكلفة والأثر البيئي، ويأخذ في الاعتبار مستقبل تصنيع الإلكترونيات.

Get in touch

Where Are We?

Factory Address

Industrial Park, No. 438, Shajing Donghuan Road, Bao'an District, Shenzhen, Guangdong, China

Head Office Address

Floor 4, Zhihui Creative Building, No.2005 Xihuan Road, Shajing, Baoan District, Shenzhen, China

HK Office Address

ROOM A1-13,FLOOR 3,YEE LIM INDUSTRIAL CENTRE 2-28 KWAI LOK STREET, KWAI CHUNG HK,CHINA

Let's Talk

Phone : +86 400 878 3488

Send Us A Message

The more detailed you fill out, the faster we can move to the next step.

Microchip Removal